Двойное травление
Техника двойного экспонирования при двойном травлении
Процесс двойного травления позволяет гравировщику создавать текстуры (узоры) внутри рисунков на магниевых или медных клише для тиснения фольгой. Техника двойного экспонирования, как правило, более быстрая и точная, чем при ручном ретушировании при помощи защитного лака. Она позволяет гравировщику создавать более детальные и тщательно проработанные изображения, чем при ручной обработке. После первого экспонирования происходит микровытравливание текстуры на фотогравировальной пластине. Перед вторым экспонированием на пластину повторно распыляется фоторезист, чтобы защитить микро протравленную область во время глубокого травления.
Условия успеха
Изготовьте два негатива.
На негативе № 1 выбранные области будут иметь желаемую текстуру. Негатив № 2 будет содержать контур изображений, находящихся на негативе № 1. Негативная пленка № 2 будет очищена в областях текстур, повторно нанесенный фоторезист будет пересеченным над текстурой.
Повторно нанесите фоторезист на пластину.
Фоторезист HYDRO-SOLVE® выпускается в виде спрея для быстрого и легкого нанесения на пластину после микротравления изображения. Это позволяет наносить на пластину нужное количество фоторезиста, экономя таким образом, фоторезист и время, в этом преимущество спрея перед дезинтеграторами и распыляющими пистолетами.
Порядок действия
1. экспонируйте негатив № 1 (“текстурный негатив”) на фотогравировальной пластине.;
2. проявите пластину как обычно.
3. приготовьте 10% раствор азотной кислоты для микротравления.
4. выполните микротравление текстурированного изображения с помощью раствора азотной кислоты.
Примерная длительность травления 30 секунд. после этого текстура на пластине станет видимой. если нужно более глубокое травление увеличьте время выдержки пластины в азотной кислоте.
5. извлеките пластину из раствора азотной кислоты, промойте и высушите.
Пластину необходимо промыть и высушить для следующего шага - нанесения фоторезиста.
6. распылите на текстурированные области пластины фоторезист hydro-solve.
7. высушите фоторезист воздухом, в сушке или феном.
Время сушки зависит от условий, толщины нанесенного фоторезиста и метода. сушите, пока фоторезист не перестанет быть липким.
8. экспонирование негатива № 2 (“маски”) на фотогравировальной пластине с повторно нанесенным покрытием.
Выровняйте негатив по регистрационным меткам и приклейте скотчем. время экспонирования должно быть таким же, как обычно, если только слой фоторезиста не слишком толстый.
9. проявите пластину, как обычно.
10. выполните глубокое травление на травильной машине со стандартными параметрами глубины, угла и пр.
11. текстурированные области пластины будут защищены фоторезистом через пробельные области негатива № 2.
После второго травления удалите слой фоторезиста с пластины, чтобы получить готовое клише с текстурами.
ВНИМАНИЕ: ДИЗАЙНЕР МОЖЕТ СОЗДАТЬ НЕОГРАНИЧЕННОЕ РАЗНООБРАЗИЕ ТЕКСТУР И СПОСОБОВ ИСПОЛЬЗОВАНИЯ ЭТОЙ ТЕХНИКИ. МНОГОУРОВНЕВОЕ ТРАВЛЕНИЕ ТАКЖЕ ВОЗМОЖНО - ПРОСТО СОЗДАЙТЕ НЕСКОЛЬКО НЕГАТИВОВ И ПОВТОРИТЕ ВЫШЕОПИСАННЫЕ ШАГИ.
Более подробные шаги описаны в видео:
